電子ビーム描画装置
ELS-HAYATE
製品特徴
最大フィールドサイズ5 mmの一括描画
業界最大の5 mm偏向を実現しました。一括で描画できるエリアが広くなるため、フィールド間のつなぎ合わせ誤差が気になるアプリケーションに最適です。また、サンプル面内でのステージ移動回数も減少するため、高スループットな微細加工にもお役立て頂けます。
最大ビーム電流800 nAの大電流電子光学系を採用
最大電流800 nAの大電流電子光学系を搭載し、電子ビームリソグラフィーの常識を超える高スループットな微細加工が可能です。これまでレーザーリソグラフィーやフォトリソグラフィーで作製していたµm~mmオーダーのパターンも高品質に露光可能です。
業界最速スキャンクロック400 MHz
これまで大電流で描画を行う際は、最小ドーズタイムと最適なドーズ量のバランスから、ショットピッチを広く設定する必要がありました。400 MHzスキャンクロックでは、最小ドーズタイムが従来の1/4となり、これまで不可能だった大電流かつ狭ピッチでの描画が可能となり、より高速で高品質な描画を実現します。
主な仕様
| 電子銃 | ZrO/W 熱電界放出型 |
|---|---|
| 加速電圧 | 50 kV |
| ビーム電流 | 1 nA ～ 800 nA |
| 最小ビーム径 | D 10 nm |
| 標準フィールドサイズ | 5000 μm□ |
| 最小 / 最大フィールドサイズ | 最小 1000 μm □ 最大 5000 μm□ |
| スキャンクロック | 最大 400 MHz |
| ショットピッチ | 最小 1.0 nm |
| 最大試料サイズ | 8″ ウェハー / 12″ ウェハー |
| 最大描画エリア | 200 mm x 200 mm / 300 mm x 300 mm |
| 搬送機構 | シングルオートローダー マルチオートローダー ロボットローダー |
| Software | elms（エルムス）
|
アプリケーション
加速電圧 50 kV
4 inch全面にピッチ400 nmのLine&Spaceパターンを18hで作製
線幅100〜450 nmの同心円パターン
モルフォ蝶の鱗粉を模したパターン
線幅150 nmの長方形パターン
