電子ビーム描画装置
ELS-BODEN Σ

電子ビーム描画装置

ELS-BODEN Σ

新製品
微細加工装置

業界最速!スキャンクロック400 MHzの高速スキャンで生産向けに対応

製品特徴

業界最速の400 MHz高速スキャン

これまで大電流で描画を行う際は、最小ドーズタイムと最適なドーズ量のバランスから、ショットピッチを広く設定する必要がありました。400 MHzスキャンクロックでは、最小ドーズタイムが従来の1/4となり、これまで不可能だった大電流かつ狭ピッチでの描画が可能となり、より高速で高品質な描画を実現します。

高速化したステージ速度

描画フィールドをたくさん並べたり、描画中にアライメントマークの検出を繰り返したりすると、ステージの駆動回数が増えてしまいます。このような描画を行う際は、ステージの駆動速度が重要となります。BODEN∑では高速駆動が可能なステージを採用することで、スループットを重視する産業用途に有利な仕様となっております。

外乱の影響を低減

装置本体を囲う風防と磁場キャンセラーを標準搭載。設置環境の外乱を低減し、安定したプロセスを実現します。

主な仕様

電子銃	ZrO/W 熱電界放出型
加速電圧	50 kV	100 kV	125 kV	150 kV
ビーム電流	1 nA ～ 800 nA	20 pA ～ 100 nA	5 pA ～ 100 nA	5 pA ～ 100 nA
最小ビーム径	D 2.8 nm	D 1.8 nm	D 1.7 nm	D 1.5 nm
標準フィールドサイズ	1000 μm□	1000 μm□	500 μm□	500 μm□
最小 / 最大フィールドサイズ	最小 100 μm □ 最大（オプション）3000 μm□
スキャンクロック	最大 400 MHz
ショットピッチ	最小 0.2 nm
最大試料サイズ	8″ ウェハー
最大描画エリア	200 mm x 200 mm
搬送機構	シングルオートローダーロボットローダー
Software	elms（エルムス）ビーム調整機能描画スケジュール機能パターンデータ変換機能アカウント管理機能 Python スクリプティング