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電子ビーム描画装置
ELS-BODEN

電子ビーム描画装置

ELS-BODEN

  • 新製品
  • 微細加工装置
高繊細描画から大電流高速描画まで幅広いアプリケーションに対応

製品特徴

8インチ/12インチをラインナップ

業界初のフル12インチ描画エリアを実現しました。研究開発でよく使われる小片サイズから、2/3/4/5/6/7/8/12インチサイズのウェハに対応し、マスクブランクスも6025や9025サイズに対応しています。

充実した自動搬送機構ラインナップ

研究開発用途で要望の多いシングルオートローダーはもちろんのこと、少量生産から中量生産まで対応可能なマルチオートローダー、ロボットローダー等充実のラインナップから最適な搬送機構をご選択頂けます。

ユーザーフレンドリーなソフトウェア

新たな装置制御ソフトウェア「elms(エルムス)」を標準搭載しました。CAD変換やビーム調整,描画実行,SEM観察など様々な機能を整理して分割することにより、必要な機能が見つけやすくなり、作業性が格段にアップしています。アカウント管理機能もあるため、ユーザーのレベルに合わせた機能制限等も可能です。

主な仕様

電子銃 ZrO/W 熱電界放出型
加速電圧 50 kV 100 kV 125 kV 150 kV
ビーム電流 1 nA ~ 800 nA 20 pA ~ 200 nA 5 pA ~ 100 nA 5 pA ~ 100 nA
最小ビーム径 D 2.8 nm D 1.8 nm D 1.7 nm D 1.5 nm
標準フィールドサイズ 1000 μm□ 1000 μm□ 500 μm□ 500 μm□
最小 / 最大フィールドサイズ 最小 100 μm □
最大(オプション)3000 μm□
スキャンクロック 標準 100 MHz
最大(オプション)200MHz
ショットピッチ 最小 0.2 nm
最大試料サイズ 8″ ウェハー / 12″ ウェハー
最大描画エリア 200 mm x 200 mm / 300 mm x 300 mm
搬送機構 シングルオートローダー
マルチオートローダー
ロボットローダー
Software elms(エルムス)
  • ビーム調整機能
  • 描画スケジュール機能
  • パターンデータ変換機能
  • アカウント管理機能
  • Python スクリプティング

アプリケーション

加速電圧 150 kV

ピッチ50 nm、線幅3 nmのLine&Spaceパターン
ピッチ50 nm、線幅3 nmのLine&Spaceパターン
ピッチ12 nmのElbowパターン
ピッチ12 nmのElbowパターン
線幅8 nmの縦・横・斜め・リングパターン
線幅8 nmの縦・横・斜め・リングパターン
ギャップ2.5 nmのBow-Tieパターン
ギャップ2.5 nmのBow-Tieパターン

加速電圧 125 kV

ピッチ60 nm、線幅4 nmのLine&Spaceパターン
ピッチ60 nm、線幅4 nmのLine&Spaceパターン
ピッチ600 nmのブレーズドパターン
ピッチ600 nmのブレーズドパターン
2 µm厚のレジストで作製したピッチ250 nmのSAWデバイスパターン
2 µm厚のレジストで作製したピッチ250 nmのSAWデバイスパターン
一辺50 nmの三角形パターン
一辺50 nmの三角形パターン

加速電圧 100 kV

Φ20 nm、高さ60 nmのピラーパターン
Φ20 nm、高さ60 nmのピラーパターン
ピッチ60 nmのLine&Spaceパターン
ピッチ60 nmのLine&Spaceパターン
ピッチ400 nm、一辺200 nmの四角形パターン
ピッチ400 nm、一辺200 nmの四角形パターン
円周スキャンを用いた線幅50 nmのリングパターン
円周スキャンを用いた線幅50 nmのリングパターン

加速電圧 50 kV

4 inch全面にピッチ400 nmのLine&Spaceパターンを18hで作製
4 inch全面にピッチ400 nmのLine&Spaceパターンを18hで作製
線幅100〜450 nmの同心円パターン
線幅100〜450 nmの同心円パターン
モルフォ蝶の鱗粉を模したパターン
モルフォ蝶の鱗粉を模したパターン
線幅150 nmの長方形パターン
線幅150 nmの長方形パターン

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