電子ビーム描画装置
ELS-BODEN
製品特徴
8インチ/12インチをラインナップ
業界初のフル12インチ描画エリアを実現しました。研究開発でよく使われる小片サイズから、2/3/4/5/6/7/8/12インチサイズのウェハに対応し、マスクブランクスも6025や9025サイズに対応しています。
充実した自動搬送機構ラインナップ
研究開発用途で要望の多いシングルオートローダーはもちろんのこと、少量生産から中量生産まで対応可能なマルチオートローダー、ロボットローダー等充実のラインナップから最適な搬送機構をご選択頂けます。
ユーザーフレンドリーなソフトウェア
新たな装置制御ソフトウェア「elms(エルムス)」を標準搭載しました。CAD変換やビーム調整,描画実行,SEM観察など様々な機能を整理して分割することにより、必要な機能が見つけやすくなり、作業性が格段にアップしています。アカウント管理機能もあるため、ユーザーのレベルに合わせた機能制限等も可能です。
主な仕様
| 電子銃 | ZrO/W 熱電界放出型 | |||
|---|---|---|---|---|
| 加速電圧 | 50 kV | 100 kV | 125 kV | 150 kV |
| ビーム電流 | 1 nA ~ 800 nA | 20 pA ~ 200 nA | 5 pA ~ 100 nA | 5 pA ~ 100 nA |
| 最小ビーム径 | D 2.8 nm | D 1.8 nm | D 1.7 nm | D 1.5 nm |
| 標準フィールドサイズ | 1000 μm□ | 1000 μm□ | 500 μm□ | 500 μm□ |
| 最小 / 最大フィールドサイズ | 最小 100 μm □ 最大(オプション)3000 μm□ |
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| スキャンクロック | 標準 100 MHz 最大(オプション)200MHz |
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| ショットピッチ | 最小 0.2 nm | |||
| 最大試料サイズ | 8″ ウェハー / 12″ ウェハー | |||
| 最大描画エリア | 200 mm x 200 mm / 300 mm x 300 mm | |||
| 搬送機構 | シングルオートローダー マルチオートローダー ロボットローダー |
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| Software | elms(エルムス)
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アプリケーション
加速電圧 150 kV
ピッチ50 nm、線幅3 nmのLine&Spaceパターン
ピッチ12 nmのElbowパターン
線幅8 nmの縦・横・斜め・リングパターン
ギャップ2.5 nmのBow-Tieパターン
加速電圧 125 kV
ピッチ60 nm、線幅4 nmのLine&Spaceパターン
ピッチ600 nmのブレーズドパターン
2 µm厚のレジストで作製したピッチ250 nmのSAWデバイスパターン
一辺50 nmの三角形パターン
加速電圧 100 kV
Φ20 nm、高さ60 nmのピラーパターン
ピッチ60 nmのLine&Spaceパターン
ピッチ400 nm、一辺200 nmの四角形パターン
円周スキャンを用いた線幅50 nmのリングパターン
加速電圧 50 kV
4 inch全面にピッチ400 nmのLine&Spaceパターンを18hで作製
線幅100〜450 nmの同心円パターン
モルフォ蝶の鱗粉を模したパターン
線幅150 nmの長方形パターン


