電子ビーム描画装置
ELS-ORCA
製品特徴
多様なオプションで最適な仕様にカスタマイズ
加速電圧30 kVを標準とし、加速電圧50 kVやダイナミックフォーカス・スティグマ、ハイトセンサーを用いたフォーカス調整等、様々なオプションをご用意しました。これらオプションを組み合わせることで、ご所望のパターンやご予算に合わせた装置仕様にカスタマイズ可能です。
ユーザーフレンドリーなソフトウェア
新たな装置制御ソフトウェア「elms（エルムス）」を標準搭載しました。CAD変換やビーム調整、描画実行、SEM観察など様々な機能を整理して分割することにより、必要な機能が見つけやすくなり、作業性が格段にアップしています。アカウント管理機能もあるため、ユーザーのレベルに合わせた機能制限等も可能です。
SEM観察に特化したリターディングオプション
低ダメージかつ高分解能なSEM観察を可能とするリターディングオプションを選択可能です。SEM装置相当の低加速電圧で、最大試料サイズ8 inch、観察可能範囲6 inchのSEM観察を行えます。また、描画用CADを流用して座標を合わせた自動観察も可能です。
主な仕様
| 電子銃 | ZrO/W 熱電界放出型 | |
|---|---|---|
| 加速電圧 | 1 ~ 30 kV | 1 ~ 50 kV ※オプション |
| 最小ビーム径 | D 2.0 nm | D 1.6 nm |
| ビーム電流 | 5 pA ～ 80 nA | |
| スキャンクロック | 100 MHz | |
| ショットピッチ | 最小 0.1 nm | |
| 最大フィールドサイズ | 1000 µm□ | |
| 最大試料サイズ | 8″ ウェハー | |
| 最大描画エリア | 150 mm x 150 mm | |
| 搬送機構 | シングルオートローダー | |
| Software | elms（エルムス）
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アプリケーション
加速電圧 30 kV
ピッチ 100 nm, 線幅 15 nm の Line & Space パターン
線幅 8 nm の「ORCA」パターン
線幅 100 nm, 高さ 200 nm の斜め線パターン
Pt をリフトオフして作製した 9.5 nm のナノギャップパターン
