ECRイオンビーム装置
EIS-1500
製品特徴
微細加工に最適
ECRプラズマは、低ガス圧の環境下で生成されるため直進性の高いビームを引き出すことができます。大量の低エネルギーイオンを加速して、より高真空な試料チャンバー内に導いて加工します。ナノオーダーのエッチング加工に最も適したシステムです。
PCによる操作の簡略化と自動化
オペレーターの負荷を軽減するための自動スケジュール機能、レシピ機能など快適なオペレーション環境を提供します。
低ダメージエッチング
プラズマ生成条件設定、ビーム加速電圧設定などに加え、ビーム面内分布モニタリング機能を駆使することで、レジストへのダメージを最小限に止め、選択比の大きい加工条件が得られます。
主な仕様
| イオン銃 | ECR型イオン銃 |
|---|---|
| イオン化ガス | Ar, N₂, O₂, CF₄など ※CF系ガスは要相談 |
| 加速電圧 | 300 V～2000 V |
| ビーム電流密度 | Ar：0.15 ～0.2 mA/cm²またはそれ以上 (700 V加速時） |
| ビーム有効径 | Φ108 ｍｍ ※最大時 |
| 最大試料サイズ | Φ6インチ |
| 試料ステージ | 回転傾斜1軸動ステージ（水冷機構付き） |
| 到達真空度 | 3×10⁻⁴ Pa以下 |
| 動作真空度 | 6×10⁻³ Pa～3×10⁻² Pa |
| 排気系 | ターボ分子ポンプ ドライポンプ |
| 推奨設置スペース | W 5000 mm×D 3500 mm×H 2000 mm |
アプリケーション
EIS-1500
ピッチ450 nmLine&Spaceの45°傾斜エッチングパターン
PtをArイオンでエッチングしたピッチ400 nmLine&Spaceパターン
SiをArイオンでエッチングしたピッチ400 nmLine&Spaceパターン
