Dr. Edmond Chow
Senior Research Engineer
イリノイ大学において、エリオニクスの描画装置は際立った描画性能を提供してくれている。また、新規ユーザーでもすぐに装置を使いこなせる直感的でユーザーフレンドリーな操作性のソフトウェアを備えている。
"The system provides outstanding lithography resolution and overlay accuracy. Additionally, its software is intuitive and user-friendly, enabling new student users to quickly become proficient."
ユーザー略歴
・電子線リソグラフィーの分野で四半世紀以上の豊富な経験
・アカデミアでの研究(University of Illinois, Chalmers University in Sweden)
・国立研究所での研究(Sandia National Laboratories)
・民間研究所での研究(Agilent Technology Laboratory)
・電子線リソグラフィーと半導体微細加工のスペシャリストとしてご活躍
北米初の加速電圧150 kV 電子ビーム描画装置
エリオニクスのELSシリーズ 150 kVモデル(現行はELS-BODEN 150)は、世界で初めて最小線幅4ナノ(ナノは10億分の1)メートルを保証した電子ビーム描画装置。北米で初めてこの装置の導入を決定したのがイリノイ大学で、2022年2月の納入以来主任エンジニアとして装置の管理監督運用を担当しているのがChow博士だ。以下に博士からのコメントを紹介する。
「エリオニクスの描画装置は卓越したリソグラフィ解像度と重ね描画精度を提供してくれる。さらに、ソフトウェアは直感的でユーザーフレンドリーであるため、新入生でもすぐに使いこなせるようになる。また、このソフトウェアのユーザーアカウント管理機能は、わかりやすいアクセス制御を備えていて、新規ユーザーが装置に損害を与えることを防いでくれる。全体として、Elionix ELS 150システムは、イリノイ大学の微細加工能力を大幅に向上させてくれました。」
ご提供いただいたパターニング例
線幅 10 nm の Line & Space パターン, CSARレジストマスク 55 nm
MMA-PMGI-PMMAの三層レジスト
HEMT用100 nm Tゲート
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