Dr. Edmond Chow
Senior Research Engineer
イリノイ大学において、エリオニクスの描画装置は際立った描画性能を提供してくれている。また、新規ユーザーでもすぐに装置を使いこなせる直感的でユーザーフレンドリーな操作性のソフトウェアを備えている。
"The system provides outstanding lithography resolution and overlay accuracy. Additionally, its software is intuitive and user-friendly, enabling new student users to quickly become proficient."
ユーザー略歴
・電子線リソグラフィーの分野で四半世紀以上の豊富な経験
・アカデミアでの研究(University of Illinois, Chalmers University in Sweden)
・国立研究所での研究(Sandia National Laboratories)
・民間研究所での研究(Agilent Technology Laboratory)
・電子線リソグラフィーと半導体微細加工のスペシャリストとしてご活躍
ご提供いただいたパターニング例
線幅 10 nm の Line & Space パターン, CSARレジストマスク 55 nm
MMA-PMGI-PMMAの三層レジスト
HEMT用100 nm Tゲート
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