電子ビーム描画装置
『ELS-BODEN Σ』
電子ビーム描画装置
『ELS-BODEN』
超高スループット電子ビーム加工装置
『ELF-10000』
ECRイオンエッチング･成膜装置『EISシリーズ』
電子線三次元粗さ解析装置『ERA-9200』
セミインレンズ FE-3D･SEM
電子ビームエッジ解析装置『ERA-nanoR』
Quad₋SED
超大型非破壊観察装置『ERA-600SP』
Quad₋SED
三次元粗さ解析走査電子顕微鏡『ERA-600シリーズ』 FE-3D･SEM Quad₋SED
電子線水素可視化装置『ERA-600H2』新製品
高分解能SEM用試料コーティング装置『ESC-101』
超微小押し込み硬さ試験
機『ENT-5』
ナノインデンテーションテスター
- 2022年4月
-
NHKワールドで放送中の番組『Japan's Top Inventions』内の
「ニッチトップ製品紹介」のコーナーにエリオニクスが紹介されました。
- 2022年1月
-
SEMICON Japan2021、nanotecｈ2022展
の展示会情報を更新いたしました。
- 2022年 1月
- 『部品長納期化についてのお知らせとお詫び』
お客様 各位
株式会社 エリオニクス
時下ますますご清栄のこととお喜び申し上げます。平素は格別のお引き立てを賜わり誠に有難うございます。
この度、世界的な半導体不足の影響により、弊社の生産装置の出荷や一部のメンテナンス部品の入荷が
大幅に遅れる状況になっております。
その影響で、メンテナンスの箇所によっては即座に対応ができない場合がございます。
お客様をはじめお取引先様には多大なご迷惑をお掛けいたします事、心よりお詫び申し上げます。
引き続き、生産継続と部品確保に向けて全力を尽くし、可能な限り早くお届けできるよう努めて参りますので、
何卒ご理解賜りますようお願い申し上げます。
納期の詳細につきましては、弊社に問い合わせください。
- 2021年12月
-
東京商工リサーチの『優良企業情報誌ALevel（エラベル）2023関東版』に弊社が掲載されました。
- 2021年12月
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世界を代表するマイクロエレクトロニクス 製造サプライチェーンの国際展示会
『SEMICON Japan』に出展いたします。
日時:2021年12月15日(水)～17日(金) 時間 10:00～17:00
会場:東京ビッグサイト 東4ホール 弊社小間番号 4616
多数の皆様のご来訪心よりお待ちしております。
- 2022年1月
-
世界最大ナノテクノロジー総合展『nano tech 2022』に出展いたします。
日時:2022年1月26日(水)～28日(金) 時間 10:00～17:00
会場:東京ビッグサイト 東2-3ホール 弊社小間番号2Q-04
多数の皆様のご来訪心よりお待ちしております。
- 2022年1月
-
第１７回 先端表面技術展・会議『ASTEC2022』に株式会社レスカ様と
共同出展いたします。
日時:2022年1月26日(水)～28日(金) 時間 10:00～17:00
会場:東京ビッグサイト 東3ホール 弊社小間番号 3A-06
多数の皆様のご来訪心よりお待ちしております。
- 2021年6月
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新製品 三次元粗さ解析装置『ERA-9200』及び、
電子ビーム エッジ解析装置『ERA-nanoR』、
超大型非破壊観察装置『ERA-600SP』、
超微小押し込み硬さ試験機『ENT-5』を発表いたしました。
- 2021年3月
-
日刊工業新聞の『これから伸びる東京のカイシャ2021』に弊社が掲載されました。
- 2021年5月
-
『KENJA GLOBAL（賢者グローバル）』に弊社代表取締役社長七野のインタビューが掲載されました。
- 2021年 3月
- 『在宅勤務終了のお知らせ』
政府より発令された緊急事態宣言の解除に伴い、在宅勤務を終了し、
3月より、通常勤務となりました。
今後も、感染拡大防止を最優先とし、事業を継続してまいります。
お客様、関係者の皆様には、ご理解とご協力賜りますよう、
引き続きよろしくお願いいたします。
- 2021年2月
-
『The Human Story』に弊社代表取締役社長七野のインタビューが掲載されました。
- 2021年 1月
- 『新型コロナウイルス感染防止についてのお知らせ』
政府より緊急事態宣言が発令されたことを受け、当社対策について、
以下のとおりお知らせいたします。
・一部従業員の時差出勤、および在宅勤務を実施しております。
・不要不急の出張を制限しております。
・会議はWeb会議を推奨しております。
・来訪者に対しては、体調、海外渡航歴についてご確認頂くと共に、
マスクご着用・アルコール消毒をお願いしております。
緊急事態宣言の発令中、ならびに対策期間中は、感染拡大防止を
最優先とし、事業を継続してまいります。
お客様、関係者の皆様には、ご理解とご協力賜りますよう、
引き続きよろしくお願いいたします。
- 2020年11月
-
新製品 電子ビーム描画装置『ELS-BODEN Σ』及び、『ELS-BODEN』を発表いたし
ました。
- 2020年11月
-
『The VISION～トップの描く未来図～』に弊社代表取締役社長七野のインタビューが
掲載されました。
- 2020年10月
- 『経済産業省から「地域未来牽引企業」に選定されました』
このたび経済産業省より、地域経済牽引事業の担い手の候補となる地域の中核企業として、
全国1,060社の中の1社として弊社が「地域未来牽引企業」に追加選定されました。
「地域未来牽引企業」は、地域内外の取引実態や雇用・売上高を勘案し、地域経済への影響力が大きく、
成長性が見込まれるとともに、地域経済のバリューチェーンの中心的な担い手、および担い手候補である
企業とのことです。
- 2020年 6月
- 『在宅勤務終了のお知らせ』
政府より発令された緊急事態宣言の解除に伴い、在宅勤務を終了し、
6月より、通常勤務となりました。
今後も、感染拡大防止を最優先とし、事業を継続してまいります。
お客様、関係者の皆様には、ご理解とご協力賜りますよう、
引き続きよろしくお願いいたします。
- 2020年 4月
- 『新型コロナウイルス感染防止についてのお知らせ』
政府より緊急事態宣言が発令されたことを受け、当社対策について、
以下のとおりお知らせいたします。
・一部従業員の時差出勤、および在宅勤務を実施しております。
・不要不急の出張を制限しております。
・会議はWeb会議を推奨しております。
・来訪者に対しては、体調、海外渡航歴についてご確認頂くと共に、
マスクご着用・アルコール消毒をお願いしております。
緊急事態宣言の発令中、ならびに対策期間中は、感染拡大防止を
最優先とし、事業を継続してまいります。
お客様、関係者の皆様には、ご理解とご協力賜りますよう、
引き続きよろしくお願いいたします。
- 2020年 1月
- nano tech2020 国際ナノテクノロジー総合展・技術会議より、『ナノファブリケーション賞』を受賞いたしました。
- 2020年 1月
-
新製品 小型イオンシャワー装置『EIS-200DE』を発表いたしました。
- 2020年 1月
-
新製品 超高スループット電子ビーム加工装置『ELF-10000』を発表いたしました。
- 2019年12月
-
三菱UFJリサーチ&コンサルティング社の『三菱UFJビジネススクエア SQUET』に弊社が掲載されました。
- 2019年 2月
- 『修理料金改定についてのお知らせ。』 2019年2月吉日
平素はエリオニクス製品をご愛用いただきまして、誠にありがとうございます。
このたび、2020年4月1日以降のご注文受付分より修理料金ならびに電子銃交換費用を改定すること
といたしました。
- 2019年 1月
-
日本経済新聞に弊社の超高速電子ビーム描画装置UHSEBの記事が掲載されました。
NEDO戦略的基盤技術高度化支援事業（プロジェクト委託型）
『半導体微細加工 コスト減 高速描画装置を開発』
- 2018年12月
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新製品 小型イオンシャワー装置『EIS-200ERP』を発表いたしました。
- 2018年 4月
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『TAMA Cluster: The Technological Powerhouse In Western Tokyo』
(一社)首都圏産業活性化協会(TAMA産業活性化協会)の活動の中で特色ある企業として
弊社が『Forbes JapanVoice』に紹介されました。
- 2018年 2月
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新製品 超高精細高精度電子ビーム描画装置『ELS-F150』を発表いたしました。
- 2017年 9月
-
新製品 超微小押し込み硬さ試験機『ENT-NEXUS』を発表いたしました。
- 2016年 1月
-
新製品 高スループット電子ビーム描画装置『ELS-HS50』を発表いたしました。
- 2015年 8月
-
新製品 三次元粗さ解析走査電子顕微鏡『ERA-600』を発表いたしました。
- 2014年 9月
-
新製品 加速電圧50kVのTFE電子ビーム描画装置『ELS-S50』を発表いたしました。
- 2014年 8月
-
新製品 三次元粗さ解析走査電子顕微鏡『ERA-600FE』を発表いたしました。
- 2014年 3月
- 当社が経済産業省より『グローバルニッチトップ企業100選』に選定、表彰されました。
- 2014年 3月
- BS-TBS報道経済番組『グローバルナビフロント』に弊社本目会長が生出演いたしました。
- 2014月 1月
-
新製品 超高精度電子ビーム描画装置『ELS-F100』を発表しました。
