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電子ビーム描画装置『ELSシリーズ』 

加速電圧 150 kV 

ピッチ 50 nm,線幅 3 nm の
Line & Space パターン

ピッチ 12 nm の Elbow パターン

線幅 8 nm の縦・横・斜め・リングパターン

ギャップ 2.5 nm の Bow-Tie パターン

加速電圧 125 kV 

ピッチ 60 nm,線幅 4 nm の
Line & Space パターン

ピッチ 600 nm のブレーズドパターン

2 µm 厚のレジストで作製したピッチ 250 nm の SAW デバイスパターン

一辺 50 nm の三角形パターン

加速電圧 100 kV 

Φ 20 nm,高さ 60 nm のピラーパターン

ピッチ 60 nm の Line & Space パターン

ピッチ 400 nm,一辺 200 nm の四角形パターン

円周スキャンを用いた線幅 50 nm のリングパターン

加速電圧 50 kV 

4 inch 全面にピッチ 400 nm の Line & Space パターンを 18 h で作製

線幅 100 ~ 450 nm の同心円パターン

モルフォ蝶の鱗粉を模したパターン

線幅 150 nm の長方形パターン

加速電圧 30 kV 

ピッチ 100 nm, 線幅 15 nm の Line & Space パターン

線幅 8 nm の「ORCA」パターン

線幅 100 nm, 高さ 200 nm の斜め線パターン

Pt をリフトオフして作製した 9.5 nm のナノギャップパターン

ECRイオンビーム装置『EISシリーズ』

EIS-200ERP

ピッチ 200 nm,深さ 450 nm の Line & Space パターン

Φ300 nm,深さ 300 nm の傾斜ドットパターン

最大深さ 1050 nm のホログラムパターン

Φ35 nm,ピッチ 100 nm のピラーパターン

EIS-220P または EIS-200ERP + オプション

線幅 50 nm,高さ 100 nm の直線リフトオフパターン

線幅 50 nm,高さ 100 nm の曲線リフトオフパターン

線幅 100 nm,高さ 100 nm のリフトオフパターン

T-gate プロセスとリフトオフプロセスで作製したキノコ形状

EIS-1500

ピッチ 450 nm Line & Space の 45 ° 傾斜エッチングパターン

Pt を Ar イオンでエッチングしたピッチ 400 nm Line & Space パターン

Si を Ar イオンでエッチングしたピッチ 400 nm Line & Space パターン

電子線三次元粗さ解析装置『ERA-9200』

超高解像度電子線レジスト

超高解像度電子線レジスト 
ご提供:産業技術総合研究所 (80万倍)

Liイオン電池電極材料 
ご提供:日本スピンドル製造株式会社(25万倍) 

カーボンナノチューブ 先端部分(40万倍)

カーボンナノチューブ 
先端部分(40万倍) 

Liイオン電池電極材料 ご提供:日本スピンドル製造株式会社

Liイオン電池電極材料 
ご提供:日本スピンドル製造株式会社

3D解析 段差測定

3D解析 段差測定

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