電子ビーム描画装置『ELS-HAYATE』
新製品
微細加工装置
最大フィールドサイズ 5 mm の一括描画
業界最大の 5 mm偏向を実現しました。一括で描画できるエリアが広くなるため、フィールド間のつなぎ合わせ誤差が気になるアプリケーションに最適です。また、サンプル面内でのステージ移動回数も減少するため、高スループットな微細加工にもお役立て頂けます。
最大ビーム電流 800 nA の大電流電子光学系を採用
最大電流 800 nA の大電流電子光学系を搭載し、電子ビームリソグラフィーの常識を超える高スループットな微細加工が可能です。これまでレーザーリソグラフィーやフォトリソグラフィーで作製していた µm ~ mm オーダーのパターンも高品質に露光可能です。
業界最速スキャンクロック400MHz
これまで大電流で描画を行う際は、最小ドーズタイムと最適なドーズ量のバランスから、ショットピッチを広く設定する必要がありました。400 MHz スキャンクロックでは、最小ドーズタイムが従来の 1 / 4 となり、これまで不可能だった大電流かつ狭ピッチでの描画が可能となり、より高速で高品質な描画を実現します。
| 電子銃 | ZrO/W 熱電界放出型 | ||||
|---|---|---|---|---|---|
| 加速電圧 | 50 kV | ||||
| ビーム電流 | 1 nA ～ 800 nA | ||||
| 最小ビーム径 | D 10 nm | ||||
| 標準フィールドサイズ | 5000 μm□ | ||||
| 最小 / 最大フィールドサイズ | 最小 1000 μm □ 最大 5000 μm□ | ||||
| スキャンクロック | 最大 400 MHz | ||||
| ショットピッチ | 最小 1.0 nm | ||||
| 最大試料サイズ | 8” ウェハー / 12” ウェハー | ||||
| 最大描画エリア | 200 mm x 200 mm / 300 mm x 300 mm | ||||
| 搬送機構 | シングルオートローダー マルチオートローダー ロボットローダー | ||||
| Software | elms（エルムス） • ビーム調整機能 • 描画スケジュール機能 • パターンデータ変換機能 • アカウント管理機能 • Python スクリプティング | ||||
