ご挨拶・経営理念

エリオニクスは、1975年の創立以来、常に最先端の科学技術の進歩に貢献する装置作りを目指して、ナノテクノロジーの研究開発用装置を世に送り出してきました。

電子ビーム描画装置では、1997年に、当時の最高スペックを1/5にした線幅10nmを描ける超高精細電子線描画装置を開発、その後も次々に世界最高性能の装置を開発してきました。

2つのCS「Challenge　and　Speed」「Customer　Satisfaction」を基本姿勢として、常に他社に先駆けた装置開発を行っており、それが現在までナノテク研究用装置メーカーとしてトップランナーであり続けられた理由であると考えております。

研究開発用装置は日本国内及び、世界の大学・公的機関などにも導入され、高い評価を受けておりますが、今後は研究開発から事業化に向けた生産用装置の開発・販売にも注力してまいります。

私たちはこれからも世界中の皆様の課題解決のパートナーとして、最高性能の装置、最高の顧客満足を提供する世界ブランドの企業を目指してまいります。