電子ビーム描画装置「ELS-ORCA」を発表しました。Elionix Releases ELS-ORCA
R＆D向け電子ビーム描画装置の最新エントリーモデル
多様なオプションで最適な仕様にカスタマイズ、ユーザーフレンドリーなソフトウェア「elms（エルムス）」を標準搭載！
SEM観察に特化したリタ―ディングオプションも選択可能で研究開発に最適です。
ELS-ORCA is the latest entry model of electron beam lithography system for R&D. Various options for customization and user-friendly software "elms" are available. The retarding options enable low-damage/high-resolution SEM observation.
