ECRイオンビームエッチング装置『EIS-1500』
新製品
微細加工装置
微細加工に最適
ECRプラズマは、低ガス圧の環境下で生成されるため直進性の高いビームを引き出すことができます。大量の低エネルギーイオンを加速して、より高真空な試料チャンバー内に導いて加工します。ナノオーダーのエッチング加工に最も適したシステムです。
PCによる操作の簡略化と自動化
オペレーターの負荷を軽減するための自動スケジュール機能、レシピ機能など快適なオペレーション環境を提供します。
低ダメージエッチング
プラズマ生成条件設定、ビーム加速電圧設定などに加え、ビーム面内分布モニタリング機能を駆使することで、レジストへのダメージを最小限に止め、選択比の大きい加工条件が得られます。
| イオン銃 | ECR型イオン銃 | ||||
|---|---|---|---|---|---|
| イオン化ガス | Ar, N₂, O₂, CF₄など ※CF系ガスは要相談 | ||||
| 加速電圧 | 300V～2000V | ||||
| ビーム電流密度 | Ar：0.15～0.2mA/cm²またはそれ以上 (700V加速時） | ||||
| ビーム有効径 | Φ108ｍｍ ※最大時 | ||||
| 最大試料サイズ | Φ6インチ | ||||
| 試料ステージ | 回転傾斜1軸動ステージ（水冷機構付き） | ||||
| 到達真空度 | 3×10⁻⁴Pa以下 | ||||
| 動作真空度 | 6×10⁻³Pa～3×10⁻²Pa | ||||
| 排気系 | ターボ分子ポンプ ドライポンプ | ||||
| 推奨設置スペース | W5000mm×D3500mm×H2000mm | ||||
