微細加工装置製品一覧

創業45年を迎える歴史が生み出した信頼のラインアップ
1975年の創業以来、微細加工技術の目覚しい進歩に対し、微細加工分野、計測・分析の各分野において貢献して
まいりました。品質と性能を徹底的に追求し、これからも最先端のナノテク製品をお届けしてまいります。

※製品のご購入を検討されているお客様向けに、製品デモンストレーションのご予約を随時受け付けております。
 お気軽にお問い合わせくださいませ。

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ELS-BODEN シリーズの特徴

世界最高クラスの加速電圧 150 kVから 50 kVまでの幅広いラインナップを揃える。
また、BODENΣについては世界最高速となる400MHzの高速スキャンに対応。さらにステージの移動速度を上げることで、従来の研究・開発用途から微細加工を行う多品種少量生産用途にも対応する。

・最大電流800nAの大電流電子光学系を搭載しました。

・業界最速の基本クロック周波数400MHzを実現しました。

・ステージ移動時間を大幅に短縮しました。


『ELS-BODEN シリーズ』ラインアップ

ELS-BODEN Σ
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>業界最速!
クロック周波数400MHzの高速スキャンで生産向けに対応
ELS-BODEN
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高精細描画から大電流高速描画まで幅広いアプリケーションに対応
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ELF-10000の特徴

8インチサイズのウェハー全面の加工が24時間以内で可能となり、ウェハーサイズのナノインプリント用モールドの作製がハイコストパフォーマンスで実現できます。ナノインプリント技術を併用した量産用途から多品種少量生産用途まで、レーザー加工、機械加工などの幅広い分野への適用が期待されます。

・最大電流800nAの大電流電子光学系を搭載しました。

・業界最速の基本クロック周波数400MHzを実現しました。

・大面積偏向器を搭載し、ステージ移動させずに、
 10mm□をビーム偏向のみで描画可能です。

・ステージ移動時間を大幅に短縮しました。


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EISシリーズの特徴

小型・大型ECRイオンシャワー装置、成膜やエッチングにおいて特徴あるイオン応用装置をご提供いたします。

・ナノメーターの超微細加工、スパッタによる良質な薄膜形成が
 できます。
 
・イオンエッチングから成膜まで対応します。
  多様な実験条件が可能です。
 
・ECRプラズマを利用したフィラメントレスのイオン銃を
 採用することにより、イオンソースとして活性ガスも
 適用できます。

【応用分野】 基礎研究・試料作成・表面加工

『EISシリーズ』ラインアップ

EIS-200ERP
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>ECRプラズマ装置
弊社の小型イオンシャワー装置のベストセラーモデル。エッチングに成膜に、多目的にご利用いただけます。
*オプション
NPDユニット
EIS-1500
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>ECRプラズマ装置
ナノインプリント用モールド作成に最適。Arガスで金属薄膜が精度よく加工でき、条件を変えることで石英もエッチングできます。
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