微細加工装置製品一覧

創業45年を迎える歴史が生み出した信頼のラインアップ
1975年の創業以来、微細加工技術の目覚しい進歩に対し、微細加工分野、計測・分析の各分野において貢献して
まいりました。品質と性能を徹底的に追求し、これからも最先端のナノテク製品をお届けしてまいります。

※製品のご購入を検討されているお客様向けに、製品デモンストレーションのご予約を随時受け付けております。
 お気軽にお問い合わせくださいませ。

ELF-BODEN∑の製品ページへ

ELS-BODEN シリーズの特徴

世界最高クラスの加速電圧 150 kVから 50 kVまでの幅広いラインナップを揃える。また世界最高速となる400MHzの高速スキャンに対応。ステージの移動速度を上げることで、従来の研究・開発用途から微細加工を行う多品種少量生産用途にも対応する。

・最大電流1μAの大電流電子光学系を搭載しました。

・業界最速の基本クロック周波数400MHzを実現しました。

・大面積偏向器を搭載し、ステージ移動させずに、
 10mm□をビーム偏向のみで描画可能です。

・ステージ移動時間を大幅に短縮しました。


『ELS-BODEN シリーズ』ラインアップ

ELS-BODEN Σ
ELS-BODENΣの製品ページへ
>業界最速!
クロック周波数400MHzの高速スキャンで生産向けに対応
ELS-BODEN
ELS-BODENの製品ページへ

高精細描画から大電流高速描画まで幅広いアプリケーションに対応
ELS-F150の製品ページへ

ELSシリーズの特徴

業界でトップシェアを誇り、世界最高峰の超高精度モデルを始め幅広いラインアップがあり、様々な用途に合わせた最適な一台をお選びいただけます。

・弊社の技術力を結集した描画力
 超微細パターンが高精度に、高速に描画できます。
 
・良好な重ね合わせ精度により、広領域にわたる連続したパター
 ニングが高速に行えます。
 
・使用用途は多岐にわたります。

【応用分野】 光集積回路・SAWデバイス・量子効果素子・
       超伝導素子・ホログラム・センサーデバイス・
       ナノインプリント用モールド・マイクロマシン
       の試作

『ELSシリーズ』ラインアップ

ELS-S50EX
ELS-S50EXの製品ページへ
>最高加速電圧50kVモデル
標準でレーザー干渉計搭載ステージを搭載、他のリソとのMIX&MATCHに対応、加えてイージーオペレーション、省設置スペースを実現。
ELF-10000の製品ページへ

ELF-10000の特徴

8インチサイズのウェハー全面の加工が24時間以内で可能となり、ウェハーサイズのナノインプリント用モールドの作製がハイコストパフォーマンスで実現できます。ナノインプリント技術を併用した量産用途から多品種少量生産用途まで、レーザー加工、機械加工などの幅広い分野への適用が期待されます。

・最大電流1μAの大電流電子光学系を搭載しました。

・業界最速の基本クロック周波数400MHzを実現しました。

・大面積偏向器を搭載し、ステージ移動させずに、
 10mm□をビーム偏向のみで描画可能です。

・ステージ移動時間を大幅に短縮しました。


ELF-10000 製品ページへ

EISシリーズの特徴

小型・大型ECRイオンシャワー装置、成膜やエッチングにおいて特徴あるイオン応用装置をご提供いたします。

・ナノメーターの超微細加工、スパッタによる良質な薄膜形成が
 できます。
 
・イオンエッチングから成膜まで対応します。
  多様な実験条件が可能です。
 
・ECRプラズマを利用したフィラメントレスのイオン銃を
 採用することにより、イオンソースとして活性ガスも
 適用できます。

【応用分野】 基礎研究・試料作成・表面加工

『EISシリーズ』ラインアップ

EIS-200DE
EIS-200DEの製品ページへ
>ECRプラズマ装置
成膜・エッチング連続処理が可能なECRイオンビーム装置。大気解放せず成膜とエッチングが可能です。
EIS-200ERP
EIS-200ERPの製品ページへ
>ECRプラズマ装置
弊社の小型イオンシャワー装置のベストセラーモデル。エッチングに成膜に、多目的にご利用いただけます。
*オプション
NPDユニット
EIS-1500
EIS-1500の製品ページへ
>ECRプラズマ装置
ナノインプリント用モールド作成に最適。Arガスで金属薄膜が精度よく加工でき、条件を変えることで石英もエッチングできます。
PAGETOP