電子線描画装置／電子ビーム描画装置（EB描画装置） : エリオニクス

業界でトップシェアを誇り、世界最高峰の超高精度モデルを始め幅広いラインアップがあり、様々な用途に合わせた最適な一台をお選びいただけます。

・弊社の技術力を結集した描画力！
　超微細パターンが高精度に、高速に描画できます。
　
・良好な重ね合わせ精度により、広領域にわたる連続したパター
　ニングが高速に行えます。
　
・使用用途は多岐にわたります。

【応用分野】　光集積回路・SAWデバイス・量子効果素子・
　　　　　　　超伝導素子・ホログラム・センサーデバイス･
　　　　　　　ナノインプリント用モールド・マイクロマシン
　　　　　　　の試作

回転系ステージによる描画方式を採用し、高精度･高スループットを実現しました。ハードディスクの原版を作ることで、ディスクリートトラック･パターンドメディア等、次世代、次次世代時期ディスク製造に欠かせないマスタリング装置です。

・最小トラックピッチ17.5nm。ハードディスクの原版を作ること
 　で、磁気ディスクの量産が可能です。
　
・トータルシステムの制御系の向上により、加速電圧80kV
　(当社従来製品)を150kVにアップ。
　最小ドット径8nmの超微細パターンを短時間で描画することが
　可能になりました。
　
・記録密度は、1平方インチあたり2テラビット。高密度化に
 　より、単位面積あたりの容量が飛躍的に拡大しました。
　
・EBW-7800Cで実績のあるＲ-θ回転系ステージによる描画方式
 　を採用しています。蓄積されたデータをフィードバックしなが
 　ら、さらなる高精度･高スループットを実現しました。

小型･大型ECRプラズマ装置、ICP(誘導結合プラズマ)エッチング装置、収束イオンビーム装置など成膜やエッチング及び加工用途など特徴あるイオン応用装置をご提供いたします。

・ナノメーターの超微細加工、スパッタによる良質な薄膜形成がで
 　きます。
　
・イオンエッチングから成膜まで対応します。
 　多様な実験条件が可能です。
　
・電子サイクロトロン共鳴を利用したECR型イオン銃を用いていま
 　すので、保守の手間がカウフマン型に比較して、はるかに少な
　 くて済みます。(EIS-700を除く)

【応用分野】　基礎研究・試料作成・表面加工

・FIBの大電流化を図り、高速でアスペクト比の大きい深堀り加工
   を実現しました。
　
・多年にわたる電子描画装置で培った豊富なノウハウを基に、
　CADで設計された各種図形関数描画が可能であり、複雑な三次
　元微細加工を手軽に行うことができます。
　
・ビーム条件メモリーやステージ位置メモリー等のレシピ等のレシ
　ピ機能が充実し、最適な加工条件及び観察条件を瞬時に再現し、
　加工と同時に表面形状を観察できます。
　
・独自の複数個の二次電子検出器により、加工表面の情報を無影
　照明効果像、凹凸強調像等の新しい二次電子像で得ることができ
　ます。

・金属薄膜に電子ビームを照射し、溶融による金属ナノ粒子を形成
　できます。(特許第5296339号)
　
・電子ビームの加速電圧を変更することで、加熱深度を変えての
　表面改質・溶融微細加工が可能に。
　
・トライボロジー特性改善のための表面テクスチャリング用途に。
　
・SEM画像を観察しながら、ピンポイントでの位置精度の高い加
　工が可能。
　NCデータによる自動制御もサポートします。