微細加工装置製品一覧

ELS-F150

ELS-F150は、電子ビーム描画装置としては世界最高の加速電圧である150 kV印加可能な超微細加工に特化した電子ビーム描画装置です。
現在、世界の主要な研究機関に於いて最先端の研究用装置として使われているELS-F125を母体とし、最大印加できる加速電圧を150 kVまで上げ、シングルナノオーダーの微細加工を容易に実現!

【主な用途】
・シリコン量子ドットを使った量子コンピュータの製作
・EUVリソグラフィー向けのレジストの解像性やラフネスなど
 の評価
・シングルナノオーダーのナノインプリント用テンプレートの
 製作や樹脂材料評価
・厚膜レジストを使ったHEMT等Tゲート構造の製作
・バイオセンサのためのナノギャップパターンの製作
・X線回折用のフレネルゾーンプレート(FZP)の製作

製品特徴

広領域に渡り、均一かつ微細なパターンを描画・格段の高スループット

Multi auto loader・加速電圧150kVで、ビーム径を最小φ1.5nmまで細く絞ったビームに
 よって、4nm以下の超微細加工が可能。

・高加速電圧により、電磁波ノイズに代表される外乱要因にも強く、
 長時間安定して極細線描画が行える。

・露光プロセスのマージンが、125kVに比べさらに広がり、容易に最先
 端の超微細デバイスの試作、製作が可能。

・シングルカセットオートローダー標準搭載。・最大10スロット同時に
 描画可能なマルチカセットローダー、ウェハー搬送ロボット付きのEFEMや、さらにPEBや現像機能もオプションで
 搭載可能。

 世界最高加速電圧150㎸によるシングルナノリソグラフィー

  • 3nm L&S

    市販レジストを用いた線幅3nm、ピッチ50nm
    L&Sパターン描画例

  • ダミー白画像

主な仕様

電子銃 ZrO/W 熱電界放射型
加速電圧 150kV, 100kV, 50kV
最小電子ビーム径 Φ1.5nm (於150kV)
描画最小線幅 4nm以下 (於150kV)
ビーム電流強度 5×10-12 1×10-7 A
描画フィールドサイズ 最大 1,500μm x 1,500μm
最小 100μm x 100μm
ビームポジション 最大 1,000,000 x 1,000,000 (20bit DAC)
ビーム位置決め分解能 0.1nm
最大試料サイズ 8インチΦウェハーまたは、8インチ□マスク

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