微細加工装置製品一覧

EIS-230

スパッタ用2台、アシスト用1台、合計3台のECRイオン銃を搭載し、3種類のターゲット材が装着可能。
ECRスパッタ成膜法による膜質の優れた多層薄膜形成が容易に行えます。

製品特徴

多層膜・混合膜の形成が可能

EIS-230・イオン銃はスパッタ用2台、アシスト用1台、計3台のECRイオン銃を
 搭載。
 ターゲットステージには、最大3種類のターゲットが装着できます。
 
・スパッタ用ビームの照射時間をコントロールしながら、それぞれの
 ターゲットについて、交互にビーム照射が行えます。
 
・これらにより、多層膜形成や異種ターゲット構成原子の混ざり合った
 混合膜形成が可能です。

イオンビームミキシング・結晶化の促進が可能

・アシスト用イオン銃として機能させることにより、薄膜形成時にイオンビ-ムミキシングや薄膜形成原子の表面での
 攪拌、結晶化の促進等が可能です。         

均一で平滑な膜の形成

・ターゲットステージは、連続回転機構・首振り運動機構を備えています。  

長時間安定した運転

・酸素雰囲気中での成膜や、酸素イオンビームでのエッチング加工も長時間安定して動作します。

主な仕様

イオン銃 ECR型イオン銃
イオン化ガス

ArXe等、不活性イオン種用ガス

N2O2CF4等、活性イオン種用ガス

加速電圧 100V~3000V 連続可変(高加速電極ユニット仕様) (出力電流20mA MAX)
イオン流密度 Ar:1.5mA/cm2以上 (2kV加速時)
O2:2.0mA/cm2以上 (2kV加速時)
イオンビーム有効径 Φ20mm (FWHM35mm)
イオン流安定度 ±3%/2H
ターゲット台 同時装着可能ターゲット数:3個
ターゲットサイズ 100×80mm

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