微細加工装置製品一覧

EIP-5400

高性能電子ビーム描画装置搭載の高速パターン
ジェネレータに、深さ方向の制御を加え、
高アスペクト比な三次元微細加工が高速に行えます。

【応用分野】
 ナノファブリケーション、MEMS、メカニカル加工の最終仕上げ(例:ナノインプリント用モールド仕上げ)など

製品特徴

GUI image・FIBの大電流化を図り、高速でアスペクト比の大きい深堀り加工を実現し
 ました。
 
・多年にわたる電子描画装置で培った豊富なノウハウを基に、CADで設計
 された複雑な3次元微細加工を手軽に行うことができます。
 
・多彩なレシピ機能により、最適な加工条件、最適な観察条件を瞬時に
 再現。FIB加工と同時に加工中の形状変化をリアルタイムで観察可能。
 
・マルチチャンネル二次電子検出器搭載により、加工表面の組成強調像、
 凹凸強調像がリアルタイムに得られます。

アプリケーションギャラリー

     Si表面に1μmL&Sエッチングパターンを形成例
1μm L&S

主な仕様

イオン源 Ga液体金属イオン源
イオン加速電圧 40kV,30kV,20kV,10kV
ビーム電流強度 2x10-12 ~ 1x10-7A
イオンビーム径 Φ30nm ~ Φ8μm (スポットビーム)
描画可能領域 X方向 60mm × Y方向 60mm
最大装着試料サイズ 3インチΦウェハー試料、または3インチ□マスク試料

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