エリオニクスTOP > 製品情報 > 電子線描画装置/電子ビーム描画装置（EB描画装置） ELSシリーズ

製品情報

超微小パターンを描画できる、電子ビーム描画装置（電子線描画装置・EB描画装置・EB露光装置）です。用途・ご予算に合わせて、さまざまな装置をご用意しております。

ELSシリーズの特徴

  • 弊社の技術力を結集した描画力！超微小パターンでも精度よく描画できます。
  • 重ね合わせ精度がよいので、広範囲にわたる微細な描画が可能です。
  • 使用用途は多岐にわたります。

使用例

光集積回路・SAWデバイス・量子効果素子・超伝導素子・ホログラム・マイクロマシンの試作

ELS-F125
世界初、超高加速125kVでの電子ビームリソグラフィー！		   ELS-7500EX
高性能と使いやすさ・高度なつなぎ精度/重ね合わせ精度を実現しました。
ELS-7000
世界最高峰。加速電圧100kVによる超高精度描画を実現しました。		   ELS-7500
高性能と使いやすさを追求しました。
ELS-7800
高精度かつ高安定。加速電圧80kVにより、7nmの超ファインパターンを実現しました。		   ELS-3700
広い応用範囲を持つ研究開発用電子描画装置です。