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超高精度電子ビーム描画装置
ELS-7800
高精度・高安定。加速電圧80kVにより、10nm以下超ファインパターンを実現。
製品特徴
超微細パターン。長時間の安定性、高スループットを両立。
- 最高80kVの加速電圧により、最小径Φ2nmのビームが、長時間安定して得られます。
これにより、市販レジストでのアプリケーションでも、10nm以下の微細パターンを描画することが可能です。 - システムの統合化により、省スペースを実現しました。
細線描画例
広範囲にわたり微細なパターンを描画
- 18bitDACによる0.31nmのビーム位置決め分解能を可能にしました。さらに読み取り分解能0.6nmのレーザー干渉計を搭載し、つなぎ精度、重ね合わせ精度共に40nmを達成しております。
これにより、広範囲に微細なパターンを描画できます。
様々な図形が、簡単に描ける
- 各種要素図形描画機能を標準で持っています。
- オプションのサークルパターンジェネレーターにより円周パターン、円弧パターンの発生が可能です。
- フィールドサイズ微小ステップ変調機能を用いることでWDM回折格子製作などに対応できます。
アプリケーションギャラリー
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doughnut 85nm
(Pitch 200nm)
3Dhologram
仕様
| 電子銃エミッター | ZrO/W熱電界放射型 |
| 加速電圧 | 25,50,80kV |
| 最小線幅 | 8nm以下 |
| 試料サイズ | 最大6φインチ （オプション：8インチ） |
| ステージ移動範囲 | X：150mm / Y：155mm |
| 重ねあわせ精度 | 40nｍ |
| フィールド継ぎ精度 | 40nｍ |
