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TFE電子ビーム描画装置
ELS-7500
10nm以下の超高精度描画。高性能と使いやすさを追求しました。
製品特徴
超微細描画を実現
- φ2nmのスポットビームにより10nmラインパターンを実現しました。
描画パターンの評価にSEMとしても充分活用できる観察機能を搭載しております。 - 使い易さを追求したマウス操作でのオペレーションが可能です。
リニアエンコーダー搭載による位置決め機能
- 高分解能ステージ。ステージ位置を読み取るリニアエンコーダーの採用により、位置決めが出来るとともに、ステージの移動により広領域に描画できます。
省スペースと高性能の両立。オールPC制御で操作も簡単。
- Windows対応のGUIとCADの統合により、省設置スペースを実現しました。
- 電子光学系条件の変更や制御決定、CADパターン設計はマウス操作による親しみやすい操作環境です。
アプリケーションギャラリー
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Pyramidal
（一辺2μm×高さ1.7μm）
100nmL&S
BlazedCircle
仕様
| 電子銃エミッター | ZrO/W熱電界放射型 |
| 加速電圧 | 5〜50kＶ |
| 最小線幅 | 10nm |
| 試料サイズ | 最大5インチ 角 |
| ステージ移動範囲 | X:60mm以上 Y:90mm以上 |
| 重ねあわせ精度 | 150nｍ |
| フィールド継ぎ精度 | 300nｍ |
