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イオンエッチング・成膜装置 EISシリーズの特徴
- ナノメーターの超微細加工、スパッターによる良質な薄膜形成ができます。
- イオンエッチングから成膜まで対応。多様な実験条件が可能です。
- 電子サイクロトロン共鳴を利用したECR型イオン銃を用いていますので、保守の手間がカウフマン型に比較して、はるかに少なくて済みます。
使用例
基礎研究・試料作成・表面加工
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EIS-1200 ECRプラズマによるナノインプリントモールド作成を実現！Arガスで金属薄膜が精度よく加工でき、条件を変えることで石英もエッチングできます。 |
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EIS-200ER 弊社の小型イオンシャワー装置のベストセラーモデル。エッチングに成膜に、多目的にご利用いただけます。 |
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EIS-150(A・B) 最大試料寸法φ6インチに対応した、大口径イオンシャワー装置です。 |
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EIS-220 ナノメーターの超微細加工、スパッター成膜による薄膜作成に応えます。 |
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EIS-700 コンパクトな6インチ対応エッチング装置です。 |
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EIS-230 ナノメーターの超微細加工、スパッター成膜による薄膜作成に応えます。 |
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| EIG-210ER ベストセラーモデル、EIS-200ERで使用しているイオン銃、電源、操作部から成るユニットです。他の真空装置に取付けて、イオンソースとして活用できます |
