酸素等活性イオン種が、高密度で長時間安定して得られます。

• 無電極放電のため、長時間安定したビームが得られます。
• 最高３kVまで加速され、有効ビーム径φ20mmのイオンビームが手軽に得られます。

エッチング

• 低加速電圧でも高い電流密度が得られるため、基盤へのダメージの少ないエッチング、表面クリーニングなどが可能です。半導体ウエハーのパターンエッチングなどに最適です。
• 中和電極採用のため、絶縁物へのエッチングも可能です。
• サブミクロン領域でのアンダーカット、サイドカットの少ないエッチングもできます。