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リアクティブイオンビームエッチング装置
EIS-150（A・B）
最大試料寸法φ6インチに対応した、大口径イオンシャワー装置です。
製品特徴
リアクティブエッチングに最適
- 活性ガス(CF4、CHF3等)長時間連続運転が可能なため、リアクティブエッチングに最適です。
高効率・高均一なエッチング
- 直径120ｍｍにわたって、±5％の均一度を有するイオンビームによる、高効率、高均質なエッチングが可能です。
- イオン引き出し部に独特の工夫を施してあり、150Vという低加速電圧でも0.8mA/cm2という高い電流密度を得られます。ドライエッチング時のダメージを嫌う半導体ウェハーのパターンエッチングに最適です。
任意の角度を有する加工が可能
- ほぼ平行なイオン流を高真空内に引き出して、加工物を照射します。これにより、試料面に対し、任意の角度を有する加工が可能です。
仕様
| イオン銃 | ECR型イオン銃 |
| イオン化ガス | Ar、Xe等、不活性イオン種用ガス N2、O2、CF4等、 活性イオン種用ガス |
| 加速電圧 | 50V〜500V （高加速電極ユニットにより3000Vまで可能） |
| イオン流密度 | 0.8mA/cm2以上（150V加速時） |
| イオンビーム有効径 | φ150mm |
| 均一度 | 0.5mA/ cm2±5％(120mm内) |
| 試料ステージ | φ6インチウェハー用回転傾斜水冷付 |
